製品紹介
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半導体・LCD等に用いられるフォトレジストの、感度・残膜率・解像性・耐熱性等に寄与するノボラック樹脂製品をご提供します。 生産工場
研究所
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特長
当社フォトレジスト用樹脂の優れた5つの特長
- 高度な分子量制御によりロット間安定性に優れています。
- アルカリ現像液に対する溶解性制御性に優れています。
- 独自の手法により分子量分布制御性に優れています。
- 独自の手法により結合様式制御性に優れています。
- 多種にわたるモノマー配合技術を有しています。
用途
エレクトロニクス・電機
半導体
半導体・LCD・その他用途向けフォトレジスト
使用例
フォトレジストのパターニング例
パターニング
断面SEM
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